来源:全球半导体观察 原作者:刘静
近期,有外媒报道,华为将于6月12日~17日在集成电路重要会议——vlsi symposium 2022上发表与中科院微电子研究所合作开发的3d dram技术,并进行各种相关演示。
报道称,华为与中科院方面开发了基于铟镓锌氧igzo-fet(由 in、ga、zn、o 组成的透明氧化物)材料的caa(channel-all-around)构型晶体管3d dram技术,具有出色的温度稳定性和可靠性。
dram是一种易失性的、基于电容的、破坏性读取形式的存储器。长期以来,dram的挑战一直是如何在不增加功耗的情况下继续封装在更低的成本中。
佐治亚理工、圣母大学、罗彻斯特理工学院的研究者提出了一种新型的无电容dram(2t0c dram)。该研究小组表示,这种新型的dram在运行大型神经网络时可以提供较大的区域,节省大量能源。
据中科院微电子研究所此前介绍,基于igzo晶体管的2t0c-dram有望克服传统1t1c-dram的微缩挑战,但缺乏密度优势。
为此,中科院微电子所李泠研究员团队联合华为/海思团队在集成电路器件顶级会议iedm 2021上首次提出了新型垂直环形沟道器件结构(caa)。
中科院微电子所表示,该结构有效减小了器件面积,且支持多层堆叠,该研究成果将推动igzo晶体管在高密度dram领域的应用。
2021年8月,华为在一篇题为《奥林帕斯(2021)难题二:下一代存储产业根技术突破》的文章中表示,未来将针对数据存储领域关键根技术进行突破,其中,新型内存替代介质技术主要包括feram/、mram、pcm、3d dram等新型内存介质的材料、器件、控制器技术。
随着芯片尺寸的不断微缩,dram工艺的微缩变得越来越困难,平面dram的“摩尔定律”正在逐渐走向极限,各大厂商开始将目光锁定3d化发展。其中,hbm(高带宽存储器)为代表性产品。
2014年,amd和sk海力士宣布携手开发hbm,开启了dram 3d化发展道路。随后三星等存储巨头也展开了升级竞赛。
据悉,hbm基于dram技术,使用tsv(硅过孔)技术将数个dram芯片堆叠起来。凭借tsv方式,hbm大幅提高了容量和数据传输速率。
hbm最早由amd携手sk海力士(2014年)开发,随后三星等存储巨头也展开了升级竞赛。
经过hbm、hbm2、hbm2e、以及hbm3几代更迭,目前,hbm内存技术已成功升级到hbm3标准(第四代hbm)。sk海力士、三星、美光等存储厂商均曾表示将致力于开发hbm3内存。nvidia、synopsys、rambus等企业也在布局当中。
与传统内存技术相比,hbm具有更高带宽、更多i/o数量、更低功耗、更小尺寸,可应用于高性能计算(hpc)、超级计算机、大型数据中心、ai、云计算等领域。
3d dram是一种将存储单元堆叠至逻辑单元上方的新型存储方式,可以实现单位面积上更高的容量,解决平面dram工艺微缩愈加困难的挑战。
尽管hbm的出现开启了dram 3d化发展道路,但必须要指出的是,与nand flash闪存3d化的迅速发展不同,目前,3d dram的发展尚处于探索阶段。
今年年初,据国外媒体businesskorea报道,三星正在加快3d dram的研究和开发,并且已经开始加强相关团队建设。报道称,三星已经开始开发一种躺着堆叠单元的技术,这是与hbm不同的概念,后者是通过将多个模具堆叠在一起产生的。
此外,美光等存储巨头也在考虑开发3d dram。有报道称,美光提交了一份与三星不同的3d dram的专利申请。与此同时,应用材料和泛林集团等全球半导体设备制造商也开始开发与3d dram有关的yb体育app官方下载的解决方案。
不过,由于新材料开发的困难和物理限制等因素,3d dram的商业化还需要一些时间,有业内人士认为,全球首款3d dram将在2025年左右问世。瑞银投资银行全球研究部则认为,3d dram最早可能于2027年开始初期生产,到2028或2029年开始实质性量产。至于未来发展如何,我们拭目以待!
封面图片来源:拍信网