来源:全球半导体观察 原作者:flora
在近期举办的投资者日活动上,西部数据公布未来闪存技术路线图,西数表示将与yb体育app官方下载的合作伙伴铠侠推出162层闪存产品(bics6),之后两家公司还将发力200层以上(2xx层)闪存技术。
目前闪存市场上176层闪存产品已经批量出货,西数与铠侠162层闪存虽然层数不及176层,但西数表示将采用新材料以缩小存储单元尺寸,进而缩小芯片尺寸。
△source:西数
西数与铠侠计划2022年底前开始量产162层nand,未来两家公司还将推出200层以上(bics )的闪存产品,与bics6相比,200层以上bics 每个晶圆的位元将增加55%,传输速度提高60%,写入速度提高15%。
bics 产品将率先应用于数据中心领域,未来西数还将推出应用于消费者领域的200层以上产品(bics-y)。
△source:西数
除此之外,西数还透露,2032年之前还将陆续推出300层以上、400层以上与500层以上闪存技术。
△source:西数
延申阅读:美光公布内存、闪存技术路线图
无独有偶,另一大存储厂商美光也在投资者日活动上公布了最新内存、闪存技术路线图。
在dram领域将持续发力1β、1γ与1δ工艺,其中美光计划2022年底前推出1β dram产品,将可为图形、hbm3和汽车等领域提供良好的性能,美光还将在1γ dram工艺中引入euv技术。
△source:美光
nand flash方面,176层nand闪存之后,美光工艺节点依次是232层、2yy、3xx与4xx。其中,美光将在2022年底开始推出232层nand产品...【阅读原文】
封面图片来源:拍信网