来源:全球闪存市场
据韩媒theelec 4月4日消息,韩国nand闪存芯片材料供应商ds techopia计划在第三季度将其用于生产nand闪存芯片的材料六氯乙硅烷(hcds)的产能扩大多达50%。
据了解,hcds用于在硅芯片上形成氧化硅(sio2)和氮化硅(sin)层。该材料被认为比其他材料更稳定、更纯净,广泛用于生产dram和nand闪存芯片的低温沉积工艺。
theelec消息称,ds techopia目前经营着2家生产hcds的工厂,并计划增加第3家工厂,该工厂于2021年年中开始生产。ds techopia发言人表示,第3家工厂比前2家工厂略大,当所有3个工厂都满负荷运转时,该公司每年可生产价值高达900亿韩元的hcds。
ds techopia表示,这样做是因为三星等客户正在扩大其整体nand闪存产量,同时应用更先进的3d工艺。
据businesskorea 4月1日报道,三星已经完成了其在中国西安的二期nand闪存工厂的扩建。该工厂每月可加工13万片12英寸的晶圆,比第一工厂每月12万片要高。
据悉,三星在韩国的新工厂p3也有望在下半年投产时生产176层nand闪存芯片。
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