mocvd设备厂商veeco取得tsri订单加速第三代半导体技术应用-yb体育app官网

来源：全球半导体观察整理 2022-06-13 10:50:10

6月8日，美国mocvd设备厂商veeco 宣布，中国台湾半导体研究所（tsri、narlabs）已选择veeco的propel® r&d metal organic chemical vapor deposition（mocvd）设备，用于以氮化镓（gan）为基础的功率和射频器件相关的前沿开发和协作。

据官方介绍，veeco的propel® gan mocvd系统专为功率半导体和射频应用设计，配置了一个单晶圆反应器平台，能够沉积高质量gan膜，用于生产高效功率器件和射频器件。

单晶圆反应器是基于veeco的turbo disc®技术，包括iso flange™和symm heat™突破性技术，能够帮助实现整个晶圆的均质层流及一致的温度曲线，它是大批量生产和300mm功能以及研发应用的理想选择。

veeco 表示，propel® r&d mocvd设备已安装在tsri新竹实验室，能够联合协作推动技术创新，以及gan新兴市场开发和展示技术的能力。此次双方将共同努力和协作加速第三代半导体技术在200和300mm衬底上的大批量、低成本应用。

封面图片来源：拍信网

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