【集成电路】大硅片界人人都在说的cop究竟是什么？-yb体育app官网

cop(crystal originated particle)是存在于晶圆片的空洞，在经过氧化溶液sc1（nh4oh：h2o2:h2o=1：1：5）的处理后，可出现小的蚀刻坑洞。而这种晶圆片在经由光线散射仪器所量测出来的微粒（particle），一般称之为lpd（light point defect）。

最早期，lpd一直被认为是晶圆片加工过程所引进的污染微粒，直到1990年才发现大部分的lpd是由长晶过程所产生的空洞，因此被称之为cop。cop的大小一般在100到200nm之间。

利用afm所观察到经过sc1处理后的攀生状cop：

俯视图

3d视图

另外，观察发现晶圆片重复在sc1溶液中清洗后，cop的大小与数目会显著的增加。这是因为原来出现在晶圆片表面的cop，不会因为重复清洗而消失，而位于次表面的空洞却会因重复清洗，而出现在表面成为新的cop。