2019-11-28
根据外媒报导,已经多年蝉联全球半导体设备龙头的美商应材公司(applied materials),2019年可能将其龙头宝座,让给以生产半导体制造过程中不可或缺曝光...
asml 半导体设备 euv光刻机
材料/设备
2019-11-11
11月7日下午,asml向《科创板日报》独家回应称,对于日经新闻报道的关于交货时程仅为其媒体推测,asml从未评论或确认,对其将推测直接定性为事实作为...
asml 中芯国际 euv光刻机
2019-11-06
台积电、英特尔和三星为打造体积更小、效能更强的处理器,纷纷导入极紫外光(euv)技术,相关设备所费不赀,3家大厂资本支出直线攀升,asml等设备厂则成为...
晶圆代工 euv光刻机
2019-10-21
尽管三星也动作频频大买设备,向asml购买价值约27.5亿美元的euv设备,强化与台积电竞争能力。但目前来看,台积电不仅以极紫外光7纳米强化版制程量产应...
台积电 晶圆代工 euv光刻机
制造/封测
2019-10-17
在euv方面,asml表示客户有稳定的进展。在2019年第3季中,除了一共完成7台euv系统出货,其中3台是nxe:3400c之外,该季还接到23台euv系统订单...
asml euv光刻机
台积电近日宣布,已经开始了7nm euv工艺的大规模量产,这是该公司乃至整个半导体产业首个商用euv极紫外光刻技术的工艺。作为euv设备唯一提供商,市场...
半导体设备 euv光刻机
2019-10-16
如今,半导体细微化(scaling)最为核心的是新一代曝光技术——极紫外光刻(extreme ultra violet,简称euv)技术。现在,sk海力士正致力于实现新一代...
sk海力士 euv光刻机
2019-10-08
台积电宣布,其领先业界导入极紫外光(euv)微影技术的7纳米强效版(n7 )制程已协助客户产品大量进入市场。导入euv微影技术的n7 奠基于台积电成功...
2019-09-12
光刻机是生产线上最贵的机台,5~15百万美元/台。主要是贵在成像系统(由15~20个直 径为200~300mm的透镜组成)和定位系统(定位精度小于10nm)。其折旧...
知识库
nand flash ( 2022/6/6 18:30:08 )
dram ( 2022/6/6 18:30:08 )