90奈米制程有更多的难题 -yb体育app官网

by rickie yang, market intelligence team, dramexchange

90奈米需要使用193奈米曝光机

在90奈米量产制程中有许多难题需要克服。首先，显影设备(曝光机，扫瞄机)是半导体制程中最重要的制程设备之一。大部份dram制造商现在均使用248奈米(arf)显影设备来量产0.11微米制程的产品。虽然dram原厂正尝试着将248奈米曝光机尽可能的延伸到更先进的制程让8吋厂可以生产更久，但我们认为要在8吋厂克服90奈米量产制程技术可能性很低。假如dram原厂想要投资193奈米显影设备在8吋厂上，同时也需要投资其它制程设备，最后在考量投资相同金额在12吋厂和8吋厂上，12'吋厂将会有较好的利润及遭遇较少的难题下，我们认为dram原厂将会将90奈米制程资本支出投注在12吋厂上。

90奈米有更多的材料及化学物挑战

90奈米除了需要更换光显影设备外，还需要许多的新的材料跟化学品。这些材料包含了193奈米曝光机所需的新光阻剂，闸极及电容所需具低漏电及高电容特性的高介电系数材料，还有联结线路所需具改进电阻及电传导特性的低介电系数材料。再者，这些材料的的改变也许需要考量成本及量产兼容性而改变部份的具制程、制程技术或化学物。所有的改变将会造成90奈米量产技术的更多难题。

在2005年90奈米产出比重低。

这些难题和挑战需要时间来克服，所以我们认为在2005年samsung(三星)能有部份90奈米的产出因为samsung已经证明能克服部份的问题。然而，大部分产出都在8吋厂的hynix、micron、及使用和上述三家堆栈式技术不同的沟槽式技术的infineon面临比samsung更多的挑战。再者，8'厂可能在90奈米制程上不会有产出，因为8 吋厂无法克服90奈米量产制程技术就如同6吋厂所经历过的一样。根据下面出自我们的mi系统的图表，我们认为2005年第四季90奈米产出将会小于10%。

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