asml再宣布新计划，2030年推出hyper-yb体育app官网

euv光刻机是先进半导体生产的关键，荷兰半导体设备厂商阿斯麦(asml)正在有序执行蓝图，首阶段是标准euv后迎接high-na euv，去年底asml已交货英特尔首套high-na euv。上周asml又证实，年底也将向台积电交货high-na euv。不过，半导体业刚准备迈入high-na euv时代，asml又开始研究下代机台hyper-na euv，寻找合适yb体育app官方下载的解决方案。

据eetimes报导，asml已公布下代机台hyper-na euv蓝图，目前为开发早期阶段。asml前技术长martin van den brink 5月在imec itf world演讲表示，长远来说，hyper-na euv需改进光源系统，须采hyper-na基础，同时还需将所有系统生产效率提升到每小时400~500片晶圆。

asml计划2030年推出hyper-na euv，数值孔径达0.75。较high-na euv的0.55数值孔以及标准euv的0.33数值孔径，精确度提高，可有更高分辨率图案化及更小晶体管特征。对asml而言，hyper-na技术还能推动整体euv平台，改善成本和交货时间。

不过，hyper-na euv也遇到新挑战，如光阻剂要更薄。正如imec图案化项目总监kurt ronse所言，high-na euv应可包括2~1.4纳米节点，再到1~0.7纳米节点，之后由hyper-na euv接续。

2022年接受媒体采访时，martin van den brink表示，asml研究hyper-na euv主要目标是提出智慧yb体育app官方下载的解决方案，成本和可制造性方面都保持可控。martin van den brink担心成本和可制造性代价可能高得惊人，如果制造成本成长速度与high-na euv一样，商业化从经济面看几乎不可行。

不过martin van den brink 2023年再谈到hyper-na euv时，似乎更有信心，认为hyper-na euv是机会，成为2030年后新愿景。hyper-na euv比high-na euv双重曝光的成本更低，也为半导体产业带来新机会。

封面图片来源：拍信网