佳能纳米压印光刻设备或应用于3d nand工艺制造-yb体育app官网

来源：全球闪存市场 2024-02-11 08:10:44

据英国《金融时报》报道，佳能表示，首批客户将于今年或明年收到第一台nil设备，不过这将用于试运行。

报道称，这些新设备的工作原理是在晶圆上压印印记，而不是使用典型的光刻技术进行光学刻录，据称与行业巨头asml的euv设备相比，其能耗降低了90%。

去年，佳能推出了首款纳米压印光刻（nil）设备，该设备可以与asml的极紫外（euv）和先进的深紫外（duv）光刻系统竞争。

佳能光学产品业务负责人hiroaki takeishi表示，希望佳能能够在2024年和2025年开始发货这些设备。这项独特的技术将有助于制造简单、低成本的尖端芯片。

根据报道，佳能首先会将应用目标放在3d nand工艺制造，而不是更加复杂的微处理器。

佳能表示，其纳米压印光刻机的战略不是取代晶圆厂的duv和euv工具，而是与现有工具共存。

封面图片来源：拍信网

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