北方华创国产12英寸hdpcvd设备进入客户生产线-yb体育app官网
来源：全球半导体观察整理
近日，由北方华创自主研发的12英寸高密度等离子体化学气相沉积（hdpcvd）设备orion proxima正式进入客户端验证。
北方华创称，这标志着北方华创在绝缘介质填充工艺技术上实现了新的突破，也为北方华创进军12英寸介质薄膜设备领域，打开百亿级市场迈出了坚实的一步。
北方华创表示，orion proxima作为北方华创推出的国产自研高密度等离子体化学气相沉积设备，主要应用于12英寸集成电路芯片的浅沟槽绝缘介质填充工艺，通过沉积-刻蚀-沉积的工艺方式可以有效完成对高深宽比沟槽间隔的绝缘介质填充。现阶段，orion proxima技术性能在迭代升级中已达业界先进水平。
封面图片来源：拍信网
-
微信
精彩资讯扫码关注
-
rss
实时更新科技资讯
【免责声明】
- 1、「dramexchange-全球半导体观察」包含的内容和信息是根据公开资料分析和演释，该公开资料，属可靠之来源搜集，但这些分析和信息并未经独立核实。本网站有权但无此义务，改善或更正在本网站的任何部分之错误或疏失。
- 2、任何在「dramexchange-全球半导体观察」上出现的信息（包括但不限于公司资料、资讯、研究报告、产品价格等），力求但不保证数据的准确性，均只作为参考，您须对您自主决定的行为负责。如有错漏，请以各公司官方网站公布为准。
- 3、「dramexchange-全球半导体观察」信息服务基于"现况"及"现有"提供，网站的信息和内容如有更改恕不另行通知。
- 4、「dramexchange-全球半导体观察」尊重并保护所有使用用户的个人隐私权，您注册的用户名、电子邮件地址等个人资料，非经您亲自许可或根据相关法律、法规的强制性规定，不会主动地泄露给第三方。
【yb体育app官网的版权声明】
- 「dramexchange-全球半导体观察」所刊原创内容之著作权属于「dramexchange-全球半导体观察」网站所有，未经本站之同意或授权，任何人不得以任何形式重制、转载、散布、引用、变更、播送或出版该内容之全部或局部，亦不得有其他任何违反本站著作权之行为。
微信公众平台