来源:全球半导体观察整理
6月28日,全球半导体设备大厂asml与比利时微电子研究中心(imec)宣布,双方已签署备忘录,将在开发最先进高数值孔径(high-na)极紫外(euv)光刻试验线的下一阶段加强合作,为使用半导体技术的行业提供原型设计平台和未开发的未来机遇。
据了解,双方第一阶段的工艺研究正在使用第一台高级na euv扫描仪(twinscan exe:5000)在imec-asml高级na实验室中执行。imec和asml将与所有领先的芯片制造商、材料和设备生态系统yb体育app官方下载的合作伙伴合作,目的是为最快可能地大规模制造做好技术准备。在下一阶段,这些活动将在比利时鲁汶市imec试点线的下一代高级naeuv扫描仪(twinscan exe:200)上加速进行。
双方签署的谅解备忘录包括在比利时鲁汶的imec试验线安装和服务asml的全部先进光刻和测量设备,包括最新的0.55na euv(twinscan exe:5200)、0.33na euv(twinscan nxe:3800)、duv浸没(twinscan nxt:2100i)、yieldstar光学测量和hmi多光束等。
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