来源:technews科技新报 原作者:atkinson
晶圆制造产业进入7纳米制程之后,目前全世界仅剩台积电与三星,再加上号称自家10纳米制程优于竞争对手7纳米制程的英特尔等,有继续开发能力之外,其他竞争者因须耗费大量金钱与人力物力的情况下,都已宣布放弃。
就在7纳米制程节点以下先进制程的领域,必不可少的关键就是极紫外线微影(euv)设备导入。除了三星用在首代7纳米lpp制程,台积电也自2019年开始,将euv导入加强版7纳米 制程。
所谓的极紫外线微影设备euv,就是extreme ultraviolet简称,使用通称极紫外线之极短波(13.5nm)光线的微影技术,能加工至既有arf准分子雷射光微影技术不易达到之20nm以下的精密尺寸。不但能降低晶圆制造时光罩使用数量,以降低生产成本,并提高生产良率,也因能加工过去arf准分子雷射光微影技术不易达到的20nm以下之精密尺寸,更有助半导体产业摩尔定律(moore’s law)再往下延伸,让半导体产业发展持续精进。
因euv设备扮演如此关键性的角色,使全球晶圆生产企业都希望获得此设备。2012年,全球三大顶尖晶圆制造厂商英特尔、台积电、三星等加入全球euv市场占有率90%以上的asml“客户联合投资专案”(customer co-investment program),分别取得asml 15%、5%及3%股权,保证取得euv优先供货。
听了这么多有关euv设备的叙述之后,或许大家都懂了这是什么样的设备,但却很难想像,euv不过就是一台微影设备,究竟体积会有多大?日前asml就表示,目前最大年产量仅30台的euv设备,每台重量高达180公吨,每次运输要用3架次货机才能运完。
asml表示,目前半导体先进制程不可或缺的euv设备,每台有超过10万个零件,加上3千条电线、4万个螺栓及2公里长的软管等零组件,最大重量达180公吨,每次运输必要动用40个货柜、20辆卡车,并3架次货机才能运完,且每部造价超过1亿美元。在这么庞大的数字下,可以想见asml为什么一年最高产量只有30部euv了。
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