来源:全球半导体观察 原作者:emma
6月22日,据中国台湾《经济日报》消息,三星近日否认了有关延后3纳米芯片量产的报道。三星的一位发言人通过电话表示,目前仍按进度于第二季度开始量产3纳米芯片。
早些时候,有外媒消息称,由于良率远低于目标,三星3纳米芯片量产将再延后。
据悉,三星下一代3纳米芯片将基于 gate-all-around (gaa) 技术,三星表示,与现有 finfet 相比,该技术可将面积减少 45%,同时提供 30% 的性能提升和 50% 的功耗降低。
另外,三星表示其2纳米工艺节点处于早期开发阶段,计划于2025年实现量产。
今年6月,三星副会长李在镕开启了7日欧洲穿梭之旅,官方消息显示,李在镕于6月14日(当地时间)在荷兰veldhoven的asml总部会见了asml的高管,包括首席执行官peter wennink和首席技术官martin van den brink。
据韩媒《businesskorea》报道,三星电子副董事长李在镕从asml获得了额外的极紫外(euv)光刻设备,这对下一代半导体的生产至关重要。不过,三星电子暂时没有透露asml将提供的额外euv光刻设备的细节。
据悉,3/2纳米工艺的实现高度依赖于asml的新一代的euv光刻机。业界消息显示,asml在2021年出货的48台euv设备中,三星和台积电分别采购了15台和20台。
近些年,三星赶超台积电的雄心愈发明显,尤其表现在能体现双方技术底蕴的先进制程上,由此三星近期动态频频,包括更换半导体研发中心负责人、提高先进制程良率等。
“第一是技术,第二是技术,第三也是技术,”李在镕本月早些时候从欧洲出差回来后表示。
封面图片来源:拍信网